- Obecnie brak na stanie

Podkład to idealna propozycja dla tych, którzy poszukują produktu o średnim kryciu
Maska zapewnia odpowiedni poziom nawilżenia
Maska zapewnia odpowiedni poziom nawilżenia. Łagodzi podrażnienia i wygładza. Poprawia elastyczność i przywraca skórze komfort.
Nanieś maskę na oczyszczoną twarz, szyję i dekolt, pozostawiając 2 mm warstwę. Po 10-15 minutach spłucz wodą. Stosuj 2 razy w tygodniu.
Aqua, Glycerin, Hexyldecanol, Butyrospermum Parkii Butter, Isostearyl Lactate, Olea Europaea Oil, Garcinia Indica Seed Butter, Peat Extract, Cetearyl Alcohol, Hydroxyethyl Urea, Ceteareth-20, Gossypium Herbaceum Seed Extract, Iris Florentina Root Extract, Potassium Phosphate, Tetrasodium EDTA, Carbomer, Sodium Hydroxide, Xanthan Gum, Parfum, Methylpropanediol, Caprylyl Glycol, Phenoxyethanol, Chlorphenesin, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Benzoic Acid. Aktualny skład podany na opakowaniu produktu
Podkład to idealna propozycja dla tych, którzy poszukują produktu o średnim kryciu
Dzięki odżywce będą mocne, miękkie i gładkie.
Delikatnie, ale skutecznie usuwa makijaż i zanieczyszczenia
Matujący Krem-żel do twarzy nawilżający na dzień i noc
Płyn micelarny, naturalny i prosty w swoim składzie
check_circle
check_circle