Lirene Ninja Base matująca baza pod podkład SPF20 30 ml

Lirene Ninja Base matująca baza pod podkład SPF20 30 ml

Poznaj bazę do zadań specjalnych, która oferuje aż 10 funkcji dla perfekcyjnego makijażu! Lirene NINJA BASE to produkt, który nie tylko przedłuża trwałość makijażu o 6 godzin, ale także skutecznie matuje cerę, redukując nadmierne świecenie i ograniczając produkcję sebum. Dzięki lekkiej, beżowej formule baza wyrównuje koloryt skóry, optycznie ukrywając widoczne pory i niedoskonałości. Zawarty filtr SPF 20 chroni przed szkodliwym działaniem promieniowania UV, co sprawia, że baza doskonale nadaje się do codziennego użytku.

Kluczowe właściwości:

- Przedłuża trwałość makijażu o 6 godzin.

- Matowi cerę, redukując wyświecanie.

- Ogranicza produkcję sebum.

- Ukrywa widoczne pory i wyrównuje koloryt skóry.

- SPF 20 chroni przed promieniowaniem UV.

Odkryj bazę, która zapewnia trwały, matowy makijaż i sprawia, że skóra wygląda zdrowo i świeżo przez cały dzień!

SPOSOBY UŻYCIA

Nałóż na oczyszczoną skórę twarzy i szyi. Odczekaj 60 sekund przed nałożeniem podkładu.

SKŁAD

Aqua (Water), Dibutyl Adipate, Glycerin, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Methylene Bis-Benzotriazolyl Tetramethylbutylphenol (nano), Ethylhexyl Triazone, Isopropyl Palmitate, Kaolin, Silica, C12-15 Alkyl Benzoate, Potassium Cetyl Phosphate, Tripelargonin, Cetyl Alcohol, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, 1,2-Hexanediol, Cetearyl Alcohol, Glycine Soja (Soybean) Seed Extract, Glucose, Ceramide NG, Hexapeptide-9, Hydroxyacetophenone, Tocopherol, Coco-Caprylate, Undecane, Tridecane, Decyl Glucoside, Carbomer, Cetearyl Glucoside, Sodium Carbonate, Propylene Glycol, Xanthan Gum, Butylene Glycol, Parfum (Fragrance), Linalool, Alpha-Isomethyl Ionone, Limonene, Benzyl Salicylate, Coumarin, Hexyl Cinnamal, Benzyl Benzoate, Geraniol, Hydroxycitronellal, Citronellol, Isoeugenol, Eugenol, Caramel, CI 77492 (Iron Oxides), CI 77491 (Iron Oxides), CI 77499 (Iron Oxides). Pełny, aktualny skład INCI znajduje się zawsze na opakowaniu.